施設・設備案内Plant guide

HyTReC棟 HyTReC building

分析室（A1～A4）Analysis lab(A1～A4)

低圧（1MPaG未満）の各種試験および表面観察、水素侵入量測定を実施

水素ガス、ヘリウムガス、窒素ガスの供給ラインが設置されているため、低圧での流通試験や曝露試験が実施できます。昇温脱離分析装置を使用し、材料中に含まれる水素ガス量を測定することも可能です。

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  ベントライン

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  ガス供給ライン

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  換気扇・吸気口

主な仕様 Specifications

ユーティリティ※1

水素圧力

1MPaG未満

室内寸法

3,400×2,800mm

• ※1 水素・窒素・ヘリウム　水素回収ライン・ベントライン
• ※試験室の使用方法についてはご相談ください。

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  共焦点レーザー顕微鏡

  倍率

  110〜17,000倍

  XY平面分解能

  1nm

  光源

  450nm半導体レーザー

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  デジタルマイクロスコープ

  光学倍率

  1〜1,400倍

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  ハイスピードカメラ

  感度

  ISO5000(カラー)

  撮影速度

  50fps(1,280×1,024画素)
  〜600,000fps(16×4画素)

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  水素定量分析装置

  金属・樹脂等試料中の侵入水素量を一定の昇温速度にて定量分析が可能

  最高加熱温度

  1,000℃

主な試験例 Applicable tests

• 高圧水素試験室 （H1〜H4）
• 高圧水素試験室（H5）
• 水圧試験室 (W1)
• 水圧試験室 (W2)
• 多目的試験室 (M1)
• 多目的試験室 (M2〜M4)
• 分析室 (A1〜A4)
• 共用工作室・ユーティリティ